純水痕量硅

❶ 上海哪裡可以測定純水中二氧化硅含量

朋友你好：宏觀上看二氧化硅是不溶於水的
只有微量上才有可能部分懸浮
所以這類的探測一定要找專業的痕量分析研究院，大學也可以承擔。。

回答完畢 謝謝

❷ PM2.5裡面有硅嗎

PM2.5 是任何 直徑抄 小於 或 等於 2.5微米襲 的 顆粒物 稱為 細顆粒物（PM2.5）
顆粒物的成分很復雜，主要取決於其來源。主要的來源是從地表揚起的塵土，含有氧化物礦物和其他成分。海鹽是顆粒物的第2大來源，其組成與海水的成分類似。一部分顆粒物是自然過程產生的，源自火山爆發、沙塵暴、森林火災、浪花等。
PM2.5還可以由硫和氮的氧化物轉化而成。而這些氣體污染物往往是人類對化石燃料（煤、石油等）和垃圾的燃燒造成的。在發展中國家，煤炭燃燒是家庭取暖和能源供應的主要方式。沒有先進廢氣處理裝置的柴油汽車也是顆粒物的來源。
在室內，塵蟎、二手菸是顆粒物最主要的來源。顆粒物的來源是不完全燃燒、因此只要是靠燃燒的菸草產品，都會產生具有嚴重危害的顆粒物，使用品質較佳的香菸也只是吸菸者的自我安慰（甚至可能因為臭味較低，而造成更大的危害）；同理也適用於金紙燃燒、焚香及燃燒蚊香。

❸ 石墨爐測定水中痕量硅時,易形成解離溫度很高的SiC,此時應加入的機體改進劑是

可能是CaO，這種加入的大量干擾物質,稱 為吸收緩沖劑。被測元素由試樣回中轉入氣相,並解離為答基態原子的過程,...加熱石墨管,使石墨管內腔產生很高的溫度,從而使石墨...石墨爐測定水中微量硅時加入CaO.
我在信瑞達石墨工作，對石墨有一定的鑽研，有什麼不懂的地方可以問我。

❹ 三氯氫硅中痕量雜質化學光譜檢測的基本原理是什麼

三氯氫硅中橫梁雜志化學蚌埠兼職的基本原理就是利用了他們的頻率不同

❺ 三氯氫硅中痕量雜質化學光譜檢測的基本原理是什麼

光譜分析根據分析原理光譜分析可分為發射光譜分析與吸收光譜分析二種；

這是由於於每種原子都有自己的特徵譜線，因此可以根據光譜來鑒別物質和確定它的化學組成；

某種元素在物質中的含量達10^-10(10的負10次方)克，就可以從光譜中發現它的特徵譜線，因而能夠把它檢查出來，因此很適合做痕量的分析；

原子吸收光譜

像這樣，扣除環境的背景，很容易檢測出樣品中的元素組成。

❻ 電感耦合等離子體質譜法測定水中四十幾種痕量元素

方法提要

利用ICP-MS極高的靈敏度直接測定水源水中多種痕量元素。酸化水測定Li、Be、B、Rb、Cs、Sr、Ba、Cu、Zn、Pb、Cd、Mn、Mo、Sn、W、Ga、Ge、Sb、Bi、Hg、Ag、Y、Sc、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Tl、U、Th、V、Cr、As、Se等約40種元素，原水測定Br、I。

不同型號儀器的靈敏度差別較大，一般情況下測定下限為0.00xng/L～xμg/L(見表81.27)。

表81.27 組合標准儲備溶液［ρ(B)=20.0μg/mL］

儀器

電感耦合等離子體質譜儀。

試劑

純水電阻率大於18.0MΩ·cm。

硝酸。

各元素標准儲備溶液ρ(B)=1.00mg/mL所有被測元素均用光譜純金屬或化合物配製，或直接購買有證標准溶液多元素混合標准溶液。然後稀釋配製成組合標准儲備溶液，見表81.27。

組合標准工作溶液分別由組合標准儲備溶液稀釋制備。

第一組至第四組各元素濃度ρ(B)=20.0ng/mL，介質φ(HNO₃)=5%。

第五組ρ(Hg)=5.00ng/mL(用時現配)。

第六組ρ(Br)=200ng/mL，ρ(I)=100ng/mL。

內標元素工作溶液ρ(Rh，Re)=20.0ng/mL介質φ(HNO₃)=2%或水。於測定空白、標准和試樣溶液時經過三通在線引入。

儀器調試組合溶液ρ(B)=1ng/mL，B為Be、Co、In、Ce、U。

分析步驟

被分析元素選用的測定同位素和內標、測定限及干擾見表81.28。

表81.28 選用同位素、內標、試樣中測定限及干擾離子組合

續表

注:表中所列測定限是在調試溶液115In(1ng/mL)計數率為2×10⁴s^-1時得出。儀器型號或條件改變時測定限應根據實測得出。

以TJAExCell型ICP-MS為例的儀器工作參數見表81.29。

表81.29 TJAExCell型ICP-MS工作參數

點燃等離子體穩定15min後，用儀器調試組合溶液進行參數最佳化，要求儀器靈敏度達到1ng/mLIn的計數率大於2×10⁴s^-1。同時以CeO/Ce為代表的氧化物產率<2%，以Ce²⁺/Ce為代表的雙電荷離子產率<5%。

以高純水為空白，用ρ(B)=20.0ng/mL組合標准溶液對儀器進行校準，然後測定試樣溶液。在測定的全過程中，通過三通在線引入內標溶液。

採用過濾酸化水測定四十幾種痕量元素，原水測定Br和I。

儀器計算機根據標准溶液中各元素的已知濃度和測量信號強度建立各元素的校準曲線公式，然後根據未知試樣溶液中各元素的信號強度，給出各元素在原試樣中的質量分數。

在測定過程中，計算機始終在監測內標元素的信號強度，如發生變化(可能因儀器漂移或試樣溶液基體的變化引起)，則對所有與此內標相關聯的元素進行相應補償。

注意計算機給出的測定結果沒有扣除流程空白。由於ICP-MS的高靈敏度及相應的高稀釋倍數，需高度重視空白問題(包括試劑、環境、容器等所有環節)，所以每批試樣必須同時進行數份空白分析，最終隨同試樣上機測定，根據測定結果進行適當的空白修正。

注意事項

1)由於汞元素記憶效應較強，水中汞元素含量很低，因而引入儀器的汞標准溶液濃度應盡量低，滿足測定需要即可。若儀器被污染，應引入含金的溶液清洗。汞的標准溶液、標准系列最好單獨配製，標准系列現用現配。

2)含鹽量較高的水樣需經適當稀釋後測定，控制在稀釋後總鹽量小於0.1%。

3)干擾問題。水樣分析常見的干擾如下:

CO₂:⁴⁰Ar¹²C干擾⁵²Cr，CO₂H干擾⁴⁵Sc，通過煮沸驅逐CO₂消除。

Na:⁴⁰Ar²³Na干擾⁶³Cu，選擇⁶⁵Cu。

Cl:³⁵Cl⁴⁰Ar干擾⁷⁵As，³⁵Cl¹⁶O干擾⁵¹V，³⁵Cl¹⁶O¹H⁺干擾Cr，可通過儀器程序在線校正(具體參見第16章硅酸鹽岩石分析16.38.3.1封閉壓力酸溶-電感耦合等離子體質譜法分析49種元素)。

參考文獻

地下水質檢驗方法(D2/T0064—1993)［S］.1993.北京:中國標准出版社

生活飲用水標准檢驗方法金屬指標(GB/T5750.6—2006)［S］.2006.北京:中國標准出版社

生活飲用水標准檢驗方法無機非金屬指標(GB/T5750.5—2006)［S］.2006.北京:中國標准出版社

水質分析方法(YSS226—1994)［S］.1994.北京:中國標准出版社

飲用天然礦泉水檢驗方法(GB/T8538—1995)［S］.1995.北京:中國標准出版社

本章編寫人:劉曉雯(天津市地礦局測試中心);田來生、趙國興、桂建業、李淑珍、張永濤、左海英、韓梅、賈娜(中國地質科學院水文地質環境地質研究所)。

❼ 超純水水質標准

超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

制備
在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

應用
超純水可以在以下領域使用：

（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

（4）高壓變電器的清洗等

❽ 石墨爐原子吸收光譜法是微量分析還是超痕量分析要用幾級純水

屬於痕量分析、超痕量分析,分析純,石墨爐法的話,要用超純水,火焰法的話,起碼要用實驗室2級純水
北京龍天韜略科技

❾ 超純水能喝嗎

超純水能喝，但其中並沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水，沒有營養價值。

超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水 。

這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

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關於超純水

超純水（Ultrapure water）又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。可以用於超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。

在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下 ：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

資料來源：網路：超純水

❿ 實驗室純水分幾個等級

實驗室純水分四個等級，即：

1、蒸餾水：

實驗室最常用的一種純水，雖設備便宜，但極其耗能和費水且速度慢，應用會逐漸減少。蒸餾水能去除自來水內大部分的污染物。

2、去離子水：

應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。

3、反滲水：

反滲水克服了蒸餾水和去離子水的許多缺點，利用反滲透技術可以有效的去除水中的溶解鹽、膠體，細菌、病毒、細菌內毒素和大部分有機物等雜質。

4、超純水：

超純水在TOC、細菌、內毒素等指標方面並不相同，要根據實驗的要求來確定，如細胞培養則對細菌和內毒素有要求，而HPLC則要求TOC低。

拓展資料：

實驗室純水的分類與標准：國家實驗室純水標准（GB/T 6682）依據水的純度（水的導電性）分1、2、3級，1級電導率小於0.1μs/cm；2級電導率小於1.0μs/cm；3級電導率小於5.0μs/cm；

泉瑞QTCJ系列小型去離子水設備可滿足用戶的不同需求，產水水量10L-50L/h，水質完全符合國家實驗室1、2、3級標准，不同級別的水其生產工藝、生產產本相差較大，所以其用途也相以區分。

三級水是**級別的實驗室級純水，推薦用於玻璃器皿洗滌；水浴、高壓滅菌鍋用水以及超純水系統的進水。

二級水一般用於常規實驗室應用，比如緩沖液、pH 溶液及微生物培養基的制備；為超純水系統、臨床生化分析儀、培養箱、老化機供水；也可為化學分析或合成制備試劑。

一級水往往用於嚴格的實驗應用，如HPLC 流動相制備；GC 空白樣制備和樣品稀釋、HPLC、AA、ICP-MS等高精度分析技術；緩沖液、哺乳動物培養基制備及試管嬰兒；分子生物學試劑制備(DNA 測序、PCR 擴增等)；電泳及雜交實驗溶液配製等。

通常我們實驗室工作人員為了實驗的准確與精確性，採用一級標準的水用於二級水的實驗應用中。