半導體純水

❶ EDI純水到底是什麼東西啊

EDI純水應該是使用EDI模塊製成的純水。

EDI制備純水的原理：

EDI連續電除鹽水處理設備（電解式連續去離子）為模塊式設備，可根據需要任意組合，該系統不需要停機再生，無需酸鹼，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環保要求。可將水的電阻值由0.05-

0.1MQ/cM提升至15-18MQ/cM。EDI裝置現已應用在半導體、電廠、電子、制葯、實驗室等領域制備高純水；陰陽離子及混床離子交換水處理設備是利用陰陽離子樹脂與水中溶解性鹽類離子進行離子交換的水處理技術；

根據最終去除水中陰陽離子及混床離子交換除鹽水系統的交換特性，可將系統分為：單床式離子交換除鹽系統、雙床式離子交換除鹽系統和混床式離子交換除鹽系統。

❷ 半導體純水為什麼對硅含量有要求

1)
本徵半導體是一種完全純凈的、結構完整的半導體晶體。絕對零度時價內帶被價電子填滿，導帶容是空的。
2)
隨著溫度的升高，本徵載流子濃度迅速地增加，在本徵時器件不能穩定工作。而對於摻雜半導體，室溫附近載流子主要來源於雜質電離，在雜質全部電離的情況下，載流子濃度一定，器件就能穩定工作。所以，製造半導體器件一般都會用含有何當雜志的半導體材料，而且每一種半導體材料製成的器件都有一定的極限工作溫度，超過這一溫度後，器件就會失效。
3)
雜質在元素半導體
Si和Ge中的作用：是半導體Si\Ge的導電性能發生顯著的改變。
復制別人的
呵呵
還是希望能幫助你

❸ 純水和超純凈水的標准各是什麼

純水和來超純水一般都沒有統自一的標准。是根據用戶的需求來規定。
一般意義上講純水至少應該是去離子水，即水中大部分陰陽離子是應該被去除的。細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的。
目前水質要求最高的超純水是半導體行業，根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣，其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb，DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無。

❹ 半導體超純水設備生銹應該如何解決

1、維護膜有些決裂或塗料有些掉落，這些決裂或掉落塗料的地方會遭到腐蝕。專
2、保證防屬腐塗料具有良好的附著力、柔韌性以及耐長期沖刷的性能。
3、保證防腐塗料在運輸、安裝及使用中有良好耐紫外線照射及防水防凍的性能。
4、半導體超純水設備管道內外噴漆防腐，金屬外表所觸摸的水溶液中，氧的濃度不一樣，構成氧的濃差電池，富氧有些為陰極，而缺氧有些則成陽極遭到腐蝕。

❺ 半導體行業用純水機嗎

不需要，半導體行業用的不是純水機，而是一種專門給半導體行業配備的水機，而不是純水機

❻ 光伏行業晶體管，半導體集成電路為什麼一定要用純水

半導體工業就是通過在本徵半導體（比如純硅）里摻雜質來調節半版導體材料導電性和其它物理權化學性能的，極微量雜質就會劇烈改變半導體材料的性能，所以整個生產過程必須用去離子水，以減少非必要雜質的引入。去離子水是高純水，自來水乃至蒸餾水都達不到去離子水的純度。

❼ 半導體工業中為什麼要用去離子水

因為許多雜質（重金屬、鈉、鉀等）對於半導體特性的影響很大，在半導體表面清洗時，需要去掉這些有害雜質，以免在高溫處理時讓這些雜質進入到半導體中，故在清洗時必須採用純凈的去離子水。

❽ 如何生產純水

如果在實驗室的話，你可以通過蒸餾的辦法,如果生產的話可以用電滲析方法或反滲透法，或者二者組合使用再加上紫外殺菌儀器生產。

❾ 半導體超純水設備的價格為何會有很大的差別

當前抄國內半導體行業應用的超純水襲設備一般有前端預處理及RO、EDI提純等工序。

1.根據超純水設備的材質不同，選用的RO膜的品牌不同以及EDI模塊的噸位及品牌區別，價格上也有很大的差距。

2.其中價格中膜元件及設備材質因素會極大地影響整體設備的價格。

3.具體的加工工藝以及廠家報價也會對價格有所影響。

詳情可見官網：網頁鏈接