edi進水指標

Ⅰ EDI系統的系統運行

(1)EDI進水電導率的影響。在相同的操作電流下，隨著原水電導率的增加EDI對弱電解質的去除率減小，出水的電導率也增加。如果原水電導率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導致水的解離程度增強，極限電流增大，產生的H+和OH-的數量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。
(2)工作電壓-電流的影響。工作電流增大，產水水質不斷變好。但如果在增至最高點後再增加電流，由於水電離產生的H+和OH-離子量過多，除用於再生樹脂外，大量富餘離子充當載流離子導電，同時由於大量載流離子移動過程中發生積累和堵塞，甚至發生反擴散，結果使產水水質下降。
(3)濁度、污染指數(SDI)的影響。EDI組件產水通道內填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指數會使通道堵塞，造成系統壓差上升，產水量下降。
(4)硬度的影響。如果EDI中進水的殘存硬度太高，會導致濃縮水通道的膜表面結垢，濃水流量下降，產水電阻率下降;影響產水水質，嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道，導致組件因內部發熱而毀壞。
(5)TOC(總有機碳)的影響。進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導致系統運行電壓上升，產水水質下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。
(6)進水中CO2的影響。進水中CO2生成的HCO3-是弱電解質，容易穿透離子交換樹脂層而造成產水水質下降。
(7)總陰離子含量(TEA)的影響。高的TEA將會降低EDI產水電阻率，或需要提高EDI運行電流，而過高的運行電流會導致系統電流增大，極水余氯濃度增大，對極膜壽命不利。
另外，進水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對EDI系統運行有影響。 (1)進水電導率的控制。嚴格控制前處理過程中的電導率，使EDI進水電導率小於40μS/cm，可以保證出水電導率合格以及弱電解質的去除。
(2)工作電壓-電流的控制。系統工作時應選擇適當的工作電壓-電流。同時由於EDI凈水設備的電壓-電流曲線上存在一個極限電壓-電流點的位置，與進水水質、膜及樹脂的性能和膜對結構等因素有關[4]。為使一定量的水電離產生足夠量H+和OH-離子來再生一定量的離子交換樹脂，選定的EDI凈水設備的電壓-電流工作點必須大於極限電壓-電流點。
(3)進水CO2的控制。可在RO前加鹼調節pH，最大限度地去除CO2，也可用脫氣塔和脫氣膜去除CO2。
(4)進水硬度的控制。可結合除CO2，對RO進水進行軟化、加鹼;進水含鹽量高時，可結合除鹽增加一級RO或納濾。
(5)TOC的控制。結合其他指標要求，增加一級RO來滿足要求。
(6)濁度、污染指數的控制。濁度、污染指數是RO系統進水控制的主要指標之一，合格的RO出水一般都能滿足EDI的進水要求。
(7)Fe的控制。運行中控制EDI進水的Fe低於0.01
mg/L。如果樹脂已經發生了「中毒」，可以用酸溶液作復甦處理，效果比較好。
(8) EDI系統進水水質要求
綜合以上各方面的分析，對於EDI進水的水質要求如表所示，可以保證其出水指標達到電子行業半導體製造需要的高純水的要求。 EDI技術被制葯工業、微電子工業、發電工業和實驗室所普遍接受。在表面清洗、表面塗裝、電解工業和化工工業的應用也日趨廣泛。 YR-EDI 進水要求成 分 范 圍總可交換陽離子（包括Co2） < 25mg/L（以CaCo3計） PH值 5-9 硬度（CaCo3計） < 0.1 < 0.5 < 0.75 < 1.0 回收率 95% 90% 85% 80% 活性Sio2 < 0.5mg/L 總有機碳（TOC） < 0.5mg/L 游離氧 < 0.5mg/L YR-EDI 技術規格參 數 范 圍單個模塊流量 7.2-15GPM（1.6-3.4m3/h）正常回收率 80-95% 溫度 40-100°F（5to38°C）進口壓力 45-100psi（3.1-6.8Bar）輸入電壓 600VDC（最大）電耗 0.32-0.66KW.h/m3 外形尺寸 12"Wx24"Hx19"D 300mmWx610mmHx(90mmD

Ⅱ 美國ionpure edi模塊的進水要求有那些

美國ionpure edi模塊的進襲水指標要求：
◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水
◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm。
◎電導率：<40μS/cm。
◎PH：6.0～9.0。當總硬度低於0.1ppm時，edi最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。
◎溫度：5～35℃。
◎進水壓力：<4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。
◎有機物（TOC）：<0.5ppm。
◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
◎變價金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。
◎H2S：<0.01ppm。
◎二氧化硅：<0.5ppm。
◎色度：<5APHA。
◎二氧化碳的總量：<10ppm。
◎ SDI 15min：<1.0。

Ⅲ 食品行業用超純水設備，EDI進水標准

水源抄：（二級）反滲透RO產水，電導襲率1-10us/cm，最大電導率≤25us/cm（NaC1）
PH值：7.0-8.5（pH7.0-8.0之間EDI可有最佳電阻率性能）
溫度：15℃--35℃，（EDI最佳溫度在25℃）
進水壓力（Dw）：0.15-0.4MPa
濃水進水壓力（Cns）：比Ds端壓力低0.06-0.1MPa（必須）
產水壓力（Dour）：0.05-0.20MPa
濃水出水壓力（Cour）：比Dor端壓力低0.05-0.1MPa（必須）
進水硬度：<0.5ppm（碳酸鈣計）進水有機物：TOC<0.5ppm
進水氧化劑：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羥基氧）<0.02ppm
進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子<0.01ppm
進水硅：Si0₂<0.5ppm（反滲透RO產水典型範圍是50-150ppb）
進水總CO2：<3ppm
進水顆粒度：<1um

Ⅳ 進水水質對EDI水處理效果有什麼影響

進水水質對EDI水處理效果有什麼影響

1、進水水壓：EDI水處理進水的水壓對脫鹽效果影響不大，但是當進水水壓升高時，會驅動反滲透凈壓力值升高。反滲透凈壓力值升高會導致膜透過的水量加大，同時膜的脫鹽率不變，那麼增加的產水量就稀釋了膜透過的鹽分，提高了脫鹽率。

可是，當進水水壓一旦超過規定值時，反滲透膜過高的回收率就會加大水中含鹽量，加大膜的脫鹽壓力，造成鹽透過量增大;進水水壓的長期不穩定，會嚴重影響到反滲透膜的工作效益與工作質量。

2、進水水溫：反滲透膜會隨著進水溫度的升高增加水的透過量，根據熱脹冷縮原理，反滲透膜產水電導對水溫變化十分敏感。水溫每升高一度都會加大一定量的透過量;因此，進水水溫一定要控制在最適宜范圍內，不建議溫度過高。

3、進水酸鹼值：雖然進水的PH值對反滲透膜的產水量並無太大影響，但是卻對反滲透膜的脫鹽率影響較大。只有進水PH保持在7.5-8.5之間，反滲透膜的脫鹽率才最理想。

4、進水含鹽量：進水水質含鹽量也是影響反滲透膜性能的原因之一，反滲透膜的滲透壓是根據水中所含鹽分以及有機物的總體濃度估算出來的函數，一旦進水水質含鹽濃度增高，濃度差就會變大，在同一滲透壓的作用下，反滲透膜透鹽率就會上升，導致整體脫鹽率下降，影響水質。

Ⅳ EDI進水標准

不必要的受難，
不必要的等待，
世界象你的笑聲一樣空洞。
星星紛紛墜落??
寒冷而宏偉的夜晚。
愛在其睡眠中微哈哈笑，

Ⅵ 西門子EDI模塊產水出水只有8兆歐姆，，電流和電壓都很高，，哪個高手幫忙解決一下

EDI模塊的出水電阻率低可能原因：

1、設備本身線路問題(電源線松動等)

2、運行電壓變化

3、水量高於模塊最大進水量/低於模塊最小進水量

4、進水水質不符合要求

5、模塊堵塞或者結垢

Ⅶ 各種型號edi對進水水量有要求嗎

對進水水量沒有特別嚴格的要求，一般都是根據產水量及回收率計算就可內以知道進水量，容你要滿足產水量的要求，必然要保證該有的進水水量
實際上在控制的時候，是通過最小濃水量及最小極水量來保證EDI模塊的安全運行的

Ⅷ EDI處理的水，電導率，ph是多少

EDI的極限進水電導率是20μs以下氫氧化鈉主要是看你的PH值，ph在7.4-7.8對EDI水質最穩定說一下你專EDI的電流電壓吧電流電壓也是影屬響EDI連續電除鹽的關鍵找到它的說明書吧電流電壓進水壓力水量調到適中再控制好PH

Ⅸ EDI的進水要求

EDI的進水要求：復
反滲透RO產水，電導率制1-20μs/cm，最大允許電導率≤30μs/cm（NaCl）。
 pH值： 7.5—9
 溫度： 15℃--35℃
 進水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa
 濃水進水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa
 產水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa
 濃水出水壓力(COUT)： 0.02—0.2MPa
 進水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）
進水有機物：TOC＜0.5ppm
 進水氧化劑：Cl2（活性）＜0.03ppm，O3（臭氧）＜0.02ppm，
 進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子＜0.01ppm
 進水硅：SiO2＜0.5ppm
 進水總CO2：＜3ppm
 進水顆粒度：＜1μm