離子交換除硅
硅酸鹽為弱酸根陰離子，強鹼陰樹脂有較好的去除能力。比如凝膠型強鹼陰專樹脂201x7和大屬孔型強鹼陰樹脂D201。
但是您的問題沒有詳細描述是什麼樣的工況下去除硅酸鹽，原水中硅酸鹽濃度有多少，需要降到多少？一般陰樹脂都是結合陽樹脂一起使用，陽樹脂在前，陰樹脂在後，因為陰樹脂在酸性介質中具有更佳的交換能力。如果要想進一步降低硅酸鹽殘留濃度，可以增加陽陰混床樹脂，一般產水硅殘留可以控制到20PPb以下。
如果是另外的運行工況，則另議，本處不展開分析回答了。
可以使用食品級陽離子交換樹脂，直接就可以達到水質軟化和去除水垢的問題啦，你可以試一下DL08FG食品級軟化水樹脂。
⑶ 213型離子交換樹脂除硅性能
離子交換除硅原理 硅(SiO2)作為極弱酸,在水中以與硅酸氫根(HSiO3)離子平衡的形式存在.離子形態的硅可用強 鹼陰樹脂在OH型循環操作中除去.既然兩種形
⑷ 為什麼強鹼性陰樹脂能有效去除水中硅化物
因為強鹼陰樹脂能有效去除強酸根陰離子和弱酸根陰離子，水中的硅化物就是一種硅酸鹽，強鹼陰樹脂官能團上的OH根，能有效交換SiO3-，具體反映原理如下：
HSiO3- + ROH ➡️ RHSiO3 + OH-
當然，如果原水當中的硅化合物含量過高，也會導致強鹼陰樹脂硅污染中毒。一般情況下，陰床的強鹼樹脂再生不當、失效的樹脂未及時再生或陰樹脂再生不徹底，會發生硅酸在樹脂顆粒內部聚合的現象，而難以再生，這種現象是硅在樹脂內的積聚，不屬於硅的污染。硅的污染是指再生過程中，已從樹脂上再生出來的硅酸鹽，由於再生液pH值的降低，大量的硅酸以膠體狀態析出，嚴重時再生液可以變成膠凍狀，被覆於樹脂表面，影響樹脂的交換容量，並造成出水SiO2含量增高。
順流再生固定床和移動床一般不會發生硅的污染。硅的污染主要發生於原水中硅的含量與總陰離子含量（不包括鹼度）比值高的對流再生單床，尤其是在弱、強型陰離子交換樹脂聯合應用的設備和系統中。
清洗二氧化硅污染可用燒鹼，建議用量為130~160g/L，濃度為2.0%，處理溫度為50℃~60℃。樹脂床須先浸泡，如條件不允許，可將溶液以2個床體積/小時的流速通過樹脂床，這方法的關鍵是保持較高溫度及接觸時間。
防止硅污染的主要措施有：
①陰床失效後要及時再生，不在失效態備用。
②再生鹼液應加熱，Ⅰ型樹脂不高於40℃，Ⅱ型樹脂不高於35℃。
③降低再生液的濃度至2%NaOH。
④再生液的流速不低於5m/h，但應保持進再生液的時間不少於30min。
⑤聯合應用系統中要從設計上保證弱型陰樹脂先失效。
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⑸ 為什麼除硅必須用強鹼性陰離子交換樹脂
Si+2OH--+H2O=SiO32-+2H2↑
SiO2+2OH-=SiO32-+H2O
不論是硅還是二氧化硅，都能與強鹼反應生成陰離子：硅酸根離子，再利用陰離子交換樹脂除去硅酸根離子。
⑹ 離子交換
鉬(Ⅵ)與大量來鐵(Ⅲ)的0.5mol/LHCl溶液，通過陽離子自交換樹脂後，可用0.04mol/L硫氰酸銨溶液淋洗鉬(Ⅵ)。鉬(Ⅵ)與錸的氫氧化鈉溶液通過陰離子交換樹脂後，可用1mol/L草酸鉀溶液淋洗鉬(Ⅵ)，再用7mol/LHCl淋洗錸。
⑺ 離子交換除鹽中為什麼陽床漏鈉陰床必漏硅
一RHSO。+H。O O)求,即為除來鹽水。除硅包源括在除鹽內,硅的危害2＊＊H十＊。S隊一凡Sq+2＊。O(2)很大,如沉積在高壓鍋爐內,其隔熱性能比耐火 ＊＊N+＊O一＊O十＊0(3)磚大數倍,必造成對鍋爐的危害,在電子和集成 ROH+H;CO;一RHCO;+11。O(4)電路中則造成斷路,因此不允許硅的泄漏超過 ROH+HSO;一RHSIO;+H。O(5)規定值。反應式門)和(2)是同時進行的,代表了 水的除鹽有離子交換、電滲析、反滲透、蒸ROH與SO廣交換的兩種情況。當樹脂主要是餾法、冷凍法、溶劑革取法、水合物法等,目前使ROH存在時,反應式(2)占優勢;當水中H;SO。用最多的仍為陰、陽離子交換法,即用陽離子交 濃度超過樹脂上 OH-時,主要是反應式(l)。因換樹脂(簡稱「陽床」)去除水中的陽離子,用陰 此,運行剛開始時因都是ROH型,故是(2)式離子交換樹脂(簡稱「陰床」)去除水中的陰離 反應;當樹脂從上到下逐漸形成 R。SO。
⑻ 元素分離中，一般硅怎麼除去
離子交換一般用強酸型陽離子交換樹脂與稀釋後的水玻璃進行離子專交換，以除去水玻璃中的屬鈉離子和其他陽離子雜質製得聚硅酸溶液。再用陰離子交換樹脂進行離子交換，除去溶液中的陰離子雜質，製得高純的聚硅酸溶液。此時得到的聚硅酸溶液穩定性較
⑼ 213型離子交換樹脂除硅性能和201*7相比怎麼樣
213型離子交換樹脂，除硅性能和2017相比的話，213型離子交換樹脂圖規性能要好
⑽ 哪位高手能發給我一篇英文文獻，有關於「離子交換樹脂去除水中某種元素（除了硅）」
是什麼元素，我是樹脂生產廠家