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edi電壓上升水質下降

發布時間: 2020-12-31 01:53:37

㈠ edi膜堆出水水質很好但通量下降是什麼原因

看進EDI水質 還有模塊用了多少年了 再看下電壓的變化

㈡ EDI超純水設備模塊出現故障的原因有哪些

1.EDI模塊在長期在大電流小流量的情況下運行,導致積聚的熱量不能夠散發,而造成EDI接近兩極的膜片發熱變形,濃水壓差增大,影響產水水質與水量;
2.EDI模塊長期沒有保養,膜片和通道結垢,進出水壓差增大,也會造成產水水質下降,電壓上升,電流不能調節,導致最後無法使用;
3.當EDI設備停機時,沒有對EDI模塊進行採取保護措施,以及運行過程長期不做保養,導致EDI的膜片和通道滋生有機物,進出水壓差增大,造成產水水質下降,電壓上升,電流無法調節,最終無法使用;
4.EDI模塊系統手動運行時,在缺水狀態下加電,直接導致膜片和樹脂的發熱碳化,清洗無效,無法使用;
5.在清洗過程中,採用的清洗、消毒葯劑,而導致EDI樹脂損壞和破碎,進出水壓差增大,造成產水水質和水量全部下降;
6.電流電壓超出額定值或人為誤操作,系統維護管理不當,沒有遵守EDI模塊的使用條件;
7.EDI進水前無精密過濾器,直接導致異物堵塞EDI通道,進出水壓差增大,造成產水水量嚴重下降,清洗無效。

㈢ 最近發現EDI系統出水質變差了,應該怎麼解決

EDI超純復水系統水質下降可以制通過以下幾個方面排查:
水箱材質。由於超純水純度很高,幾乎無雜質,因此超純水容易從外界環境吸收污染物造成污染。 如果我們用的儲水箱是低級塑料,就更容易溶部分有機物,從而增加水的電導率,導致水質下降。
排氣口。超純水機的儲水水箱大多會有一個排氣口來保證氣壓平衡,這時候通過排氣口會容易進入外界的空氣同時帶入細菌、顆粒污等,這些都會將儲存在水箱中的純水污染。因而建議通氣口配置過濾器。
儲水箱。一些超純水機配置的水箱是平底水箱,在維護的時候,無法將箱底的水排干,這些排不幹凈的水就會成為細菌生長的場所。因此我們推薦使用錐形水箱,這樣可以在維護的過程中將我們的水排干,不給細菌提供生長繁殖的場所。
消毒。再密閉的環境也怕細菌滋生,因為極細微的微生物都能形成菌膜,污染我們的水。所以對於純水的消毒也是很重要的。如果以上方案還是沒能解決,可以關注錫雲超純水設備,希望能幫到你。

㈣ EDI電流與給水水質的關系

電流與給水水質的關系:

可以把給水中所有離子(如+、CI-、HCO3-等)和在EDI模塊中可轉化成離子的物質(如CO2、SiO2、NH3等)的總和稱為總可交換物質TES(TotalExchangeableSubstance)。TES以碳酸鈣計,單位是ppm或mg/L。

TES是總可交換陰離子TEA(TotalExchangeableAnion)和總可交換陽離子TEC(TotalExchangeableCation)的總和。

EDI模塊工作電流與EDI模塊中離子遷移數量成正比。這些離子包括TES,也包括由水解離產生的H+、OH-。水解離產生的H+、OH-擔負著再生EDI拋光層樹脂的作用,因此是必要的。水的電解離速率取決於電壓梯度和離子遷移速度,因此當施加於淡水室的電壓較高時,H+、OH-遷移量也大。值得注意的是,過大的電壓梯度將使離子交換膜表面產生極化,影響產品水水質。如果給水水質較好(例如雙級反滲透和脫二氧化碳裝置作為預處理)運行電流量可能接近或低於0.5A;如果給水水質較差,運行電流量可能接近3A;當水質太差時,EDI無法正常工作。雖然CanpureSuperEDI允許6A的最高極限電流,但是通常只有在對EDI裝置進行再生時才需要5A以上的電流條件。

詳情點擊:網頁鏈接

㈤ EDI處理的水,電導率,ph是多少

EDI的極限進水電導率是20μs以下氫氧化鈉主要是看你的PH值,ph在7.4-7.8對EDI水質最穩定說一下你專EDI的電流電壓吧電流電壓也是影屬響EDI連續電除鹽的關鍵找到它的說明書吧電流電壓進水壓力水量調到適中再控制好PH

㈥ EDI模塊主要的損壞原因有哪些

造成EDI模塊故障的原因分為以下幾點:

(1)EDI運行電壓過高,電流無法調節增大:進水版硬度過權高EDI內部結垢、EDI進水壓力長期過高、EDI運行常有水錘現象。

(2)EDI流量過低水質變差,壓差增大:進水余氯、硬度、硅含量過高。進水前無保安過濾器。

(3)EDI進水正常,壓力正常而水質過低:樹脂性能下降,可高電流再生。

(4)EDI模塊漏水:進水壓力過高,螺栓松動

(5)EDI模板硬體變形:在高電流低流量下運行,在通電不通水狀況下運行。

(6)EDI水流竄水:內部膜片穿孔,導致膜片穿孔原因進水硬度高、EDI被干燒。

詳情可見官網:網頁鏈接

㈦ 進水水質對EDI水處理效果有什麼影響

進水水質對EDI水處理效果有什麼影響

1、進水水壓:EDI水處理進水的水壓對脫鹽效果影響不大,但是當進水水壓升高時,會驅動反滲透凈壓力值升高。反滲透凈壓力值升高會導致膜透過的水量加大,同時膜的脫鹽率不變,那麼增加的產水量就稀釋了膜透過的鹽分,提高了脫鹽率。

可是,當進水水壓一旦超過規定值時,反滲透膜過高的回收率就會加大水中含鹽量,加大膜的脫鹽壓力,造成鹽透過量增大;進水水壓的長期不穩定,會嚴重影響到反滲透膜的工作效益與工作質量。

2、進水水溫:反滲透膜會隨著進水溫度的升高增加水的透過量,根據熱脹冷縮原理,反滲透膜產水電導對水溫變化十分敏感。水溫每升高一度都會加大一定量的透過量;因此,進水水溫一定要控制在最適宜范圍內,不建議溫度過高。

3、進水酸鹼值:雖然進水的PH值對反滲透膜的產水量並無太大影響,但是卻對反滲透膜的脫鹽率影響較大。只有進水PH保持在7.5-8.5之間,反滲透膜的脫鹽率才最理想。

4、進水含鹽量:進水水質含鹽量也是影響反滲透膜性能的原因之一,反滲透膜的滲透壓是根據水中所含鹽分以及有機物的總體濃度估算出來的函數,一旦進水水質含鹽濃度增高,濃度差就會變大,在同一滲透壓的作用下,反滲透膜透鹽率就會上升,導致整體脫鹽率下降,影響水質。

㈧ edi膜塊結垢的清洗方法

EDI設備的化學清洗及再生
膜塊堵塞的原因主要有下面幾種式:
o 顆粒/膠體污堵
o 無機物污堵
o 有機物污堵
o 微生物污堵
清洗方法時間(分) 備注
酸洗30-50
鹼洗30-50
鹽水清洗35-60
消毒25-40
沖洗≥50
再生≥120 根據系統的工藝要求直至達到出水電阻率要求指標
單個膜塊清洗時葯液配用量
型號葯液配用量(升) 備注
MX-50 50 1. 酸洗溫度15-25℃
2. 鹼洗溫度25-30℃
3. 配葯液用水必須是RO產水
或高於RO產水的去離子
MX-100 80
MX-200 110
MX-300 150
• 對於膜塊數量大於1塊時,按表中配液的數量乘以膜塊數量
EDI膜塊的再生
o 確認EDI膜塊內沒有任何的化學葯品殘留存在。
o 使系統構建成一個閉路自循環管路。
o 按照正常運行的模式調節好所有的流量和壓力。
o 給EDI送電,調節電流從2A開始分步緩慢向EDI載入電流(最大不能超
過4A)。
o 直至產水電阻率達工藝要求到或者≥12MΩ.cm
o 提示:膜塊的再生是一個比較長的時間,有時可能會長達10-24小時甚
至更長的時間。

EDI運行維護注意事項
注意:試車、操作及維護前,請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊. 本注意事項僅提醒使用者於試車、操作及維護時需要特別注意之事項,詳細操作維護內容請詳閱EDI廠家所提供操作維護手冊.
一、 進流水質要求與必要之附屬設備
(一)進流水質要求: 前處理系統一定要有 RO 系統,且要確保 RO 系統操作正常. 進流水質最低要求如下:
1 導電度(包括 SiO2 及CO2) μs/cm < 40
2 溫度 ℃ 5 - 45
3 壓力 Psi 20-100
4 自由余氯(Cl2) ppm < 0.02
5 鐵(Fe)、錳(Mn) ppm < 0.01
6 硫化物(S- ) ppm < 0.01
7 pH 4-11
8 總硬度(as CaCO3) ppm < 1.0
9 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.0
10 總有機碳(TOC) ppm < 0.5
備注: 1. 導電度計算方式=導電度計測量之導電度+2.66xCO2 濃度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)
2. 啟動初期應特別注意進流硬度、二氧化硅濃度,應避免超過1.0ppm.
(二)附屬設備: 為了保護模塊及便利後續系統監測,強烈建議 EDI 系統應至少包括下列附屬設備:
1. 穩定的電源供應設備:為了維持系統操作穩定,電源供應系統應供給穩定的直流電源給模塊,且系統能在定電流模式下操作(V=IR, 亦即設定電流(I)後,電流並不會隨進流水質改變,進流水質改變 僅會影響電阻(R)及電壓(V)).
2. 流量開關或流量控制設備:為了保護模塊,當沒有水進入模塊時, 模塊電源必須馬上被關閉,流量開關需與電源供應連動.
3. 壓力計:應至少於進流端與產水、濃縮水出水端設置壓力計,以監 測進出水壓力.
4. 進出水流量計:方便調整產水率.可使用附控制點之流量計(可作為流量開關使用).
5. 系統控制(PLC 控制):系統除了控制沒水進入時之斷電裝置外,亦應控制在進流水進入一段時間後,若電源仍無供應,應停止進流(例 如泵啟動30 秒後(視泵至EDI 距離調整時間),若電源仍無供應, 則應關閉泵,並發出警報),以避免EDI 膜堆內樹脂飽和,影響後續產水水質。
二、 試車注意事項:
(一)試車前檢查
1. 試車前應檢查管路、配件及控制系統是否安裝完成,各項檢查前應先關閉電源,以維護人員安全.
2. 模塊扭矩檢查:依照操作手冊 3.2 節檢查並鎖緊. 聯接螺栓 扭矩 1-8 25 ft.lbs. 11-14 12.5 ft.lbs. 9, 10 10 ft.lbs. 工具:扭矩扳手(19mm)+活動扳手
3. 管路檢查:檢查配管路線及閥門開關.
4. 電源控制檢查(以Ionpure 原廠電源控制為例):
1.)檢查整流器及顯示板 Jumper 的選擇是否正確:
甲、 ACV:例如 LX30,需要 660V,則選擇 660V(共有 440,550, 660 三個選項).
乙、 DC :選擇最高電流限制,例如:LX 選擇10A(共有 2.5, 4, 6.5, 10A 四個選項).選擇之電流需與顯示板上之選擇相同.
丙、 頻率:選擇 60Hz 或50Hz.
2.)檢查變壓器至控製版接線(T1, T2)及至模塊接線.
3.)檢查接地線(DC-).
4.)選擇控制模式:選擇定電流控制(A)或定電壓(V)(建議選擇定電流控制).
5.)檢查流量開關.
5. 確認進流泵容量:進流泵之汲水流量需滿足系統所需之流量,同時其揚程需能克服各項設備及管路壓損(LX 模塊壓損約 1.5-2bar(與處理量相關)).
Ionpure 原廠顯示板背面 Jumper 調整 Ionpure 原廠控制板背面 Jumper 調整及接線
(二)試車所需注意事項
1. 確認 RO 系統操作是否正常?建議 RO 系統操作穩定後,才將進流水 切換至 EDI 系統,以避免 RO 啟動初期水質較差,影響模塊性能.
2. 檢測進流水水質:檢測進流水水質,以確認進流水質符合要求,檢測項目至少包括導電度、總硬度、二氧化硅、總氯及 CO2.若水質有任一項不符前述進流水質要求,即不可將水汲入 EDI 模塊,並需檢查 前處理是否有問題. 若進流水 CO2 濃度太高(超過 5ppm),即不建議將濃縮水迴流至 RO 系統前貯槽(除非先將 CO2 去除),以避免造成 CO2 累積,影響產水水質.
3. 清洗管路:注意:為避免管路中殘留管屑等污染物進入模塊造成堵塞,建議在未試車前(包括架台配管時),先不要將原廠所附進出口之紅色套頭取出(但試車前一定要將該物取出). 在水進入模塊前,需先確定其前處理管路中已無管屑等污染物.建議 於啟動前先將模塊進水接頭拆開,並以 RO 水沖洗管路.
4. 測試各項安全保護裝置:
1.)測試進流水泵浦與EDI 連動裝置:測試進流水泵浦與 EDI 連動裝置,使得 EDI 只有在進流泵浦啟 動時才開啟電源,且當 EDI 電源沒有開啟一段時間後要關閉進流 水泵浦.
2.)流量開關測試:啟動前需先測試流量開關是否會動作,亦即沒水時電源關閉,通水啟動流量開關後(迴路連通),直流電源才供應至模塊.
5. 系統啟動注意事項
1.)當上述安全保護測試完成後,再一次檢查管路閥門開關,確定閥門開關正確後,才啟動進流泵浦.
2.)進流泵浦啟動後,檢查電源供應是否正常啟動.例如,以Ionpure 原廠顯示板為例,顯示板上燈號會由 Standby 跳至 On,若無,先關閉進流泵浦,並檢查流量開關及各接線是否正常.
3.)進流泵浦啟動後,以手動閥(最好是用膜片閥,以方便調整)調整產水及濃縮水流量,初期產水率先調整為 90%.
4.)剛啟動時,先將電流調小(例如 0.5A),確定水流及電源沒問題後, 再將電流慢慢調整到軟體計算所需之電流值(與進流水質、水量相關),觀察電壓及出水水質. 啟動初期水質可能較差,切勿因水質不佳,即貿然調高電流至遠超 過軟體所計算之值. 例如:進流水質導電度– 10μs/cm, CO2 – 8mg/l, SiO2 – 0.2mg/l 時, 以計算軟體計算所需之電流為 2.43 安培,則設定電流在約 2.5 安培 即可(以水質最差時計算),切勿一開始即將電流調整超過該值(例如4.0 安培),以避免損壞模塊.
5.)觀察進出水壓力,並以手動閥調整,使產水水壓略高於濃縮水壓約 2-5psi(若產水出口壓力低於濃縮水壓力,會影響產水水質).
6.)為避免 EDI 啟動初期產水水質不佳,建議於產水端設置二隻自動控制閥,並以 PLC 控制:當產水水質低於要求時,將EDI 產水迴流至 EDI 前貯槽,當水質高過設定水質時,才切換至下一處理設 備.
7.)當系統在穩定狀態(水質符合要求且操作穩定)時,應依據操作手冊4.0 章最後所附的資料表上記錄操作資料(檢測項目至少需包括進水溫度、導電度、總硬度、CO2,產水電阻值,進出口流量及壓力(含濃縮端),操作電壓、電流),以利後續設備檢修.
三、 操作維護注意事項
1. 應每天填寫IP-LX 系統記錄表,以便及早發現是否有可能會使保修失效或對膜堆造成破壞的問題.
2. 應至少每六個月對膜堆進行一次膜塊外觀檢測,檢查是否有漏水或鹽類沈積;並定期旋緊所有電氣連接頭及按照 3.2 章節的規定,檢查膜堆螺栓的扭矩.
3. 在下述情況下,膜堆可能需要清洗:
溫度和流量不變,產水壓降增加50%;
溫度和流量不變,濃水壓降增加50%;
溫度、流量、或進水電導率不變,產水水質下降;
溫度不變,膜堆的電阻增加25%. 清洗方法請參考操作維護手冊.
4. 若模塊發生故障可參考原廠所附操作維護手冊內之膜堆故障檢測流程或聯絡當地en-link服務商.
四、 有助於 EDI 系統穩定及水質提升的前處理設計為增加EDI系統穩定度及提升產水水質,可於前處理增加下列設備
1. 去除 CO2 設備:一般 RO 產水皆含有一定量之CO2,若能將進流水CO2 濃度降低,將有助於產水水質提升及減少結垢可能性;
2. UV:於EDI 前增設紫外線殺菌器(UV)可減少模塊長菌可能;
3. 精密過濾器:於EDI 前增設精密過濾器可避免微細顆粒物進入模塊,造成堵塞;
4. Two pass RO:當原水硬度及二氧化矽濃度相對較高或變化較大時, 為避免原水水質變化大或軟化系統出問題時,RO 產水硬度、二氧化硅濃度超過EDI 進流水標准,或減少EDI 模塊結垢可能性,建議前處理採用 Two pass RO 系統。

㈨ EDI再生時,再生24小時後,產水電阻0.12,這是什麼原因引起的

五個確保
確保運行電流在規定范圍內
確保進水水質滿足要求
確保進水壓力在規定高限之內
確保進水流量尤其是極水流量不低於要求
確保淡水、濃水、極水進水壓力遞減
影響產品性能的五個參數:進水水質;電流;壓力;流量;壓差
進水水質
CO2會造成進水水質差
對硬度的去除效率較低,硬度超過1.0PPM會導致結垢
超出允許的最大回收率會造成結垢,並可能導致產水水質下降
對硅的去除效率較低
電流
長期高電流運行會縮短膜堆壽命
合理的運行電流會提高產水水質、降低濃室結垢的可能性、並會延長膜堆壽命
合理的運行電流為該條件下極化電流+0.5A
過低的運行電流將會導致膜堆的樹脂逐漸飽和,產水水質下降,默隊被迫採用大電流進行再生。
壓力
淡水進水壓力一般比濃水進水高0.5kg~1kg
淡水進水壓力、濃水進水壓力、極水進水壓力依次降低,不能相反
淡水產水管路背壓一般0.0kg~1kg
由於離子交換膜的爆破強度為0.6MPa,因此避免由於進水流量過大、壓力過高造成離子交換膜破損,導致EDI膜堆的損壞。淡水進水壓力最高壓力不能超過6kg,最佳運行壓力在4-5kg
壓差
應合理調節濃淡水的流量和壓力,通過適當調整濃淡水出口的壓差,降低膜堆的產水回收率通過壓力滲透防止由於濃差擴散造成的產水水質的降低。
淡水進水壓力>濃水進水壓力>極水進水壓力
0.5~2.0kg 0.5~1.0kg
淡水產水背壓一般在0.05~ 1.0kg ,可以為0kg
濃水出水、極水出水不能背壓
流量
任何情況下,極水流量不得低於1 LPM,冷卻水不足可能導致膜堆損壞;
濃水流量過小,會加速濃室結垢。在滿足壓力要求和產水水質的情況下,盡量提高濃水流量。
確保不超過膜堆的回收率要求

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