反滲透配製Naoh

Ⅰ 清洗一級反滲透裝置氫氧化鈉和鹽比例酸比例

反滲透裝置清洗，就是反滲透膜清洗（ro膜清洗）。反滲透膜清洗你問氫氧化鈉和鹽專酸屬比例配比比例，你不是現成的反滲透膜清洗劑或者反滲透膜清洗劑配方嗎，反滲透膜清洗分為酸洗和鹼洗過程，氫氧化鈉和鹽酸是這兩個過程必須葯劑，但絕不是最重要。你最好還是找一些專業的成品，像protect MBC，欣格瑞等

Ⅱ 二級反滲透純化水生產中所加的氫氧化鈉怎麼配

二級來反滲透純化水生產中所源加的氫氧化鈉的量：將氫氧化鈉計量泵調到50%，觀察電導率變化，若電導率由高至低後再升高，則加氫氧化鈉量多了，應減少加氫氧化鈉量。若電導率由高一直往低，沒有再升高，則加氫氧化鈉量少了，應增加加氫氧化鈉量。氫氧化鈉加葯量的多少，還應控制二級淡水PH在6.5－－8.0之間。
反滲透純水機是一種集微濾、吸附、超濾、反滲透、紫外殺菌、超純化等技術於一體，將自來水直接轉化為超純水的裝置。反滲透純水機組核心元件反滲透（RO）膜 。 反滲透純水機制出的純凈水相對於桶裝水更新鮮、更衛生、更安全。

Ⅲ 反滲透系統中為什麼要加NAOH原理何在

主要是在反滲透產水池中加片鹼，調節產水PH值的，因為反滲透產水一般為酸性。

Ⅳ 反滲透機使用液鹼氫氧化鈉起什麼作用

反滲透出水會稍微偏酸，加氫氧化鈉調節PH

Ⅳ 反滲透誰水處理中為什麼要加氫氧化鈉

水中含抄有鎂鐵等離子襲，加氫氧化鈉可以產生沉澱去除這些離子。而加入的鈉離子不會對身體造成危害。
反滲透是最精密的膜法液體分離技術，在進水(濃溶液)側施加操作壓力以克服自然滲透壓，當高於自然滲透壓的操作壓力離加於濃溶液側時水分子自然滲透的流動方向就會逆轉，進水(濃溶液)中的水分子部份通過反滲透膜成為稀溶液側的凈化產水;反滲透設備能阻擋所有溶解性鹽及分子量大於100的有機物，但允許水分子透過，反滲透復合膜脫鹽率一般大於98%，它們廣泛用於工業純水及電子超純水制備，飲用純凈水生產，鍋爐給水等過程，在離子交換前使用反滲透設備可大幅度降底操作用水和廢水的排放量。

Ⅵ 清洗一級反滲透R膜所使用的氫氧化鈉和鹽酸與水的比例是多少

不知道這些對你有沒幫助：
反滲透膜化學清洗技術
摘要：本文介紹了反滲透膜污堵的原因，反滲透裝置清洗的方法以及清洗時應該注意的問題。
關鍵詞：反滲透膜 CIP 化學清洗 污染
1、概要
在反滲透系統運行過程中，反滲透膜表面會由於原水中泥澤、膠狀物、有機物、微生物等污染物質的存在及膜分離過程中對難溶物質的濃縮而產生的沉積，進而形成對反滲透膜的污染。我們都知道，反滲透系統的預處理裝置是為盡可能多地去除引起膜污染的物質而專門設計的，盡管如此，即便系統有著相當完善的預處理設備也不能完全避免膜在使用過程中的污染，所以需要在設備運行的過程中進行周期性的去除膜系統中污染物的作業，這個操作過程就叫做反滲透系統的就地清洗（CIP，Cleaning In Place）。
反滲透膜被污染後，就會出現系統產水量減少、鹽的透過率增加等膜性能方面的衰退。但由於反滲透設備在使用過程中，影響膜性能的其它主要因素（壓力、溫度等）的變化，膜污染的現象有可能被其它因素掩蓋，因此應予以注意。
目前，市面上大部分芳香聚醯胺反滲透復合膜，在較寬的pH值范圍內具有相當的穩定性和一定的耐溫性，所以用戶可以對反滲透系統進行非常有效的清洗。多年的工程實踐表明，若不及時對已產生一定程度污染的反滲透系統進行清洗處理，想較為徹底地去除已長時間附著膜表面的污染物是非常困難的。
一般在考慮膜系統清洗方案時，應注意如下幾點：
■ 應把清洗排放廢液對環境的影響（EDTA，殺菌劑等）降低到最低限度。
■ 應盡可能使本次清洗過程去除污染物最大化。
■ 應在清洗時對膜的損傷最小化（應首先考慮選擇對膜性能 影響小的葯劑）。
■ 在實際清洗操作時，在保證清洗效果的前提條件下，盡可能使清洗費用最低化
2、反滲透膜發生污染的原因
■ 不恰當的預處理
系統配備預處理裝置相對於原水水質及流量不合適，或在系統內未配備必要的工藝裝置和工藝環節。
預處理裝置運行不正常，即系統原有的預處理設備對原水SDI成分、濁度、膠狀物等的去除能力較低，預處理效果不理想。
■ 系統選擇了不恰當的設備或設備材質選擇不正確（泵、配管及其它）。
■ 系統化學葯品注入裝置發生故障（酸、絮凝助凝劑、阻垢分散劑，還原劑及其它）。
■ 設備間斷運行或系統停止使用後未採取適當的保護措施。
■ 運行管理人員不合理的設備操作與運用（回收率、產水量、濃縮水量、壓差、清洗及其它）。
■ 膜系統內長時間的難溶沉澱物堆積。
■ 原水組份變化較大或水源特性發生了根本的改變。
■ 反滲透膜系統已發生了相當程度的微生物污染。
3、膜污染物質分析
■ 首先應認真分析在此之前所記錄的、能反映設備運行狀況的近期設備運行記錄資料。
■ 分析原水水質。
■ 確認之前已做的清洗結果。
■ 分析系統運行時在測定SDI值測試時留在濾膜上的異物質。
■ 分析反滲透系統配置的保安過濾器濾芯上的堆積物。
■ 檢查原水流入系統的配管內部和反滲透膜的進水端的異物質。
※各種污染物質結垢時的表現
（1）碳酸鹽垢
結垢後表現：標准滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加
（2）鐵錳
污染後表現：標准壓差升高（主要發生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
（3）硫酸鹽垢
若發生沉積，首先影響鹽濃度最高的系統最後面的膜元件，表現為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
（4）硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導致系統壓差升高。採用04%二氯胺對於溶解嚴重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應採用二氯胺清洗。
（5）懸浮物有機物
污堵表現：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大於4或濁度大於1，有機物污染的可能性較大。
（6）微生物
污堵表現：標准壓差升高或標准透水量下降。可採用非氧化性殺菌劑加鹼進行清洗。
（7）鐵細菌
污堵表現：標准壓差升高。可採用EDTA鈉鹽加鹼進行清洗。
4、反滲透系統清洗時機的判斷與選擇
當有下述情況發生之—時應對反滲透膜系統予以清洗
■ 標准化後的設備產水量減少了10~15%；
■ 標准化後的膜系統運行壓力增加了15% ；
■ 標准化後的膜系統鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
■ 運行壓差較初始作業時增加了15%
（建議以設備最初運行25~48小時所得到的運行記錄為標准化後對比依據）
反滲透設備的性能參數與壓力、溫度、pH值、系統水回收率及原水含鹽濃度等諸多因素的變化有關。因此，依據初始試機時而得到的正常技術參數（產品水流量、壓力、壓差及系統脫鹽率）作為依據及與標准化後現時系統數據比較是非常重要的。此外，清洗時間的選擇也因使用反滲透設備地區的原水水質條件及環境特性的差異而

Ⅶ 在清洗反滲透的時候為什麼先用檸檬酸合理的配比之後再用氫氧化鈉調節到ph為4

用氫氧化鈉比較迅速，你要是加水的加多少啊！

Ⅷ 為穩定2級反滲透出水的PH值,如何計算NAOH的投加量

加氫抄氧化鈉是為了中和原水中襲的酸性物質，調節PH值。主要是中和水中所含的溶解性二氧化碳，如果沒有溶解性二氧化碳，甚至可以不加氫氧化鈉。一般情況是靠經驗法控制氫氧化的投加量，加完氫氧化鈉以後的水測PH值應該為9-10之間為好。
酸性水質一般表現為PH值小於7，一般為6-7之間。而且水表現為酸性，多數是水中的溶解性二氧化碳引起。少量的二氧化碳建議加入二氧化碳解決，使用計量泵（點滴泵）在線連續添加。如果二氧化碳含量過高，就不建議添加二氧化碳了。這時建議使用脫氣膜或者曝氣塔去除二氧化碳，當然最好是脫氣膜。

Ⅸ 反滲透誰水處理中為什麼要加氫氧化鈉（二級反滲透）

加二氧化鈉可以與水中的二氧化碳氣體反應，降低電導率。

Ⅹ 二級反滲透氫氧化鈉投入量如何計算

1.一級反滲透出水的PH都是很低的(脫鹽、水中溶解二氧化碳的原因)；
2.為提高二級反滲透脫回鹽率
二級反滲透是對答產水進行進一步處理以滿足EDI進水要求，加鹼是為了提高PH以便使二級的脫鹽率更高（硅和硼等在高PH時脫除率更高）。