光刻機配套用的水設備

1. 淘寶買來個水貨Pioneer BDR-S06XLB藍光刻錄機，可是顯示不出盤，賣家說要換window7系統才行，是這樣的嗎

強烈建議升級之後再試試，因為，我買過索尼的藍光DVD刻錄光碟機。也是要及時軟體更新的，否則，藍光DVD都無法播放的。它提示升級就要聽它的。希望能夠幫到你。

2. 上海微電子裝備的光刻機能達到什麼水平

600系列光刻機——IC前道製造基於先進的掃描光刻機平台技術，提供覆蓋前道IC製造90nm節點以上大規模生產所需，包含90nm、130nm和280nm等不同解析度節點要求的ArF、KrF及i-line步進掃描投影光刻機。該系列光刻機可兼容200mm和300mm矽片。

500系列光刻機——IC後道、MEMS製造
基於先進的步進光刻機平台技術，提供覆蓋後道IC封裝、MEMS/NEMS製造的步進投影光刻機。該系列光刻機採用ghi線的高功率汞燈作為曝光光源，其先進的逐場調焦調平技術對薄膠和厚膠工藝，以及3D-TSV結構等具有良好的自動適應性，並通過採用具有專利的圖像智能識別技術，無需專門設計特殊對准標記。該系列設備具有高解析度、高套刻精度和高生產率等一系列優點，可滿足用戶對設備高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生產需求。

300系列光刻機——LED/MEMS/Power Devices製造
300系列光刻機面向亞微米2-6英寸晶圓的光刻市場需求，支持亞微米節點條件下的各種半導體光刻製程，特別包括LED圖形化藍寶石襯底生產工藝、LED晶元電極曝光、MEMS和Power Devices生產工藝。

200系列光刻機—AM-OLED顯示屏製造
200系列投影光刻機綜合採用先進的步進光刻機平台技術和掃描光刻機平台技術，專用於新一代AM-OLED顯示屏的TFT電路製造。該系列光刻機不僅可用於基板尺寸為200mm × 200mm的工藝研發線，也可用於基板尺寸為 G2.5(370mm × 470mm)到G5.5(1300mm × 1500mm)的AM-OLED顯示屏量產線。

3. 索尼光刻機什麼水平

22納米左右

4. 中國的光刻機與刻蝕機已經達到世界先進水平，為什麼有些人還說中國晶元業依舊前路艱辛

據媒體報道，2018年12月，中微半導體設備（上海）有限公司自主研製的5納米等離子體刻蝕機經台積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。5納米，相當於頭發絲直徑（約為0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶元上的最小線寬。台積電計劃2019年進行5納米製程試產，預計2020年量產。

中國的刻蝕機的確是達到了世界先進水平，光刻機還早，而且就算是這兩樣都世界先進了，不代表中國晶元業的前路就不艱辛了。目前中國的刻蝕機的確領先，5納米等離子體刻蝕機已經通過台積電驗證；但是光刻機就差多了，之前新聞報道中提到的「中科院SP超分辨光刻機」其實最多隻能算是一個「原型機」，和ASML的光刻機不能相提並論，也不能用來製造晶元，還需要攻克一系列的技術難題退一步講，就算是中國的光刻機與刻蝕機都達到世界領先就解決問題了么？ASML的EUV光刻機我們已經下單等待交貨了，是不是到貨以後中國就可以生產7nm甚至是5nm的晶元了不要把問題想簡單了，以為晶元也只有光刻機和刻蝕機。晶元製造的技術、經驗、工藝以及人才是一個系統性的工程，台積電也不是一天建成的，有了光刻機也不代表我們就能造出最頂尖的晶元。

5. 國產光刻機是什麼東西今年下線預示著什麼

社會在不斷的進步，人們對於一些事情的認識也不清晰，對於這些事情，我們需要不斷的鑽研，這是需要一步步的研究才能完成的，我們對於一些領域是完全陌生的，就算是經過很多年，這件事都是無法改變的，但是我相信，只要我們不斷努力，在最後所有問題都是會被解決，這一點是不需要懷疑的，我國有很多的人，他們有著超人的毅力，對於困難，他們不會退縮，他們只是選擇迎難而上，這是值得我們每一個人敬佩的，我們需要學習這種精神。

6. 中國目前光刻機處於怎樣的水平

按照高端、中端、低端三個檔次來劃分的話，中國目前是屬於第三檔，正在努力的向第二檔邁進。

由於早些年國內對光刻機這塊並不算重視，導致中國光刻機的起步晚、資金投入少、人才也相對不足，這些都是需要解決的問題。除非由國家牽頭並且進行人才資源的相關傾斜，否則國產光刻機最多也就能達到中端水平，基本上不具備追趕上ASML公司的可能性。

7. 中國的光刻機達到世界先進水平，為什麼還有人說中國晶元業依舊前路艱辛

光刻機是什麼？
我們知道一個人的身體素質好壞，跟它的心臟有關，光刻機就是所有電子產品的心臟。專業一點說光刻機是一台機器，它可以完成在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上，最後將器件或電路結構臨時"復制"到矽片上。

現在他們正在再接再厲，乘勝追擊，進行其他各系列產品的研發製作工作，在該領域捷報頻傳。

2018年11月29日，國家重大科研裝備研製項目"超分辨光刻裝備研製"通過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別的晶元。 10納米跟世界先進水平7納米的差距，樂觀估計是十年的差距。

目前我國晶元製造技術落後，光刻機水平也不是世界先進水平，但我國科學家是最棒 的，一定會迎頭趕上的。

8. 中國光刻機明年可以達到世界先進的水平，開始邁入晶元強國

晶元領域有一種必不可少的設備，那就是光刻機，它不是印鈔機，但是它卻比印鈔機都要貴。就目前縱觀全球也僅僅只有一家名為ASML（阿斯麥）的荷蘭公司集全球高端製造業之大成，一年時間可以造出20台高端光刻機，而這20台的高端光刻機讓台積電和三星每年都為此搶破了頭，這也讓我們國內的中芯國際苦苦等了三年，也沒能將中國的首台EUV光刻機帶進國門，最近也是因為受到禁令影響，台積電無法在為華為代工晶元，晶元領域才又重新回到了我們的視野中。

但其實這對於ASML來說反而是一個機會，依附了美國之後的ASML反而是風生水起，因為ASML加入了EUV LLC，享受了該聯盟的所有研發成果，所以ASML才能夠快速的崛起，成為現在掌握代工廠生殺大權的一家光刻機公司。雖然說ASML是一家荷蘭公司，但本質上這還是一次美國式的成功，而且現在到底還屬不屬於荷蘭都是另外一回事兒了。

這場光刻機的戰爭至此算是完全落敗了，這從那台整整三年還未能交付的EUV光刻機上就能夠看出了。雖然說我們在當時幾乎沒有參與，但在如今社會的推動下，我們依然是輸家，華為晶元的斷供就代表了太多的東西。而要說我們國內光刻機明年就可以達到世界先進水平，開始邁入晶元強國，那是不可能的事情。你覺得呢？

9. 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來

中國光刻機生產落後，關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁，禁止中國從西方進口，用不了幾年，光刻機的生產就是趕不上他們，也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會，中國銀行聯盟基金會，給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持，派出國家院士團隊全力支持研發，不愁一年兩年搞不出來。

光刻機是一台機器，你可以不斷分解這台機器，一直到各獨立原件，尤其那些關鍵是幾個部件，你會發現，做這個部件，要列出一大堆工藝設備技術，如同一棵樹散出無數枝條和樹葉，葉脈你就不要糾結了，就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死！

有人說的好：“錢不是萬能的，但沒有錢是萬萬不能的”，但是還有人說的一句話更有道理：“有錢能解決的問題都不是問題”，而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的，否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買，為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元，不會把這些錢投入自己造啊，關鍵是有錢也造不出啊！有些領域一不能逆向模仿，二不能彎道超車，三不是喊“口號”喊出來的，抓緊追趕才是正道。

中國只要不計成本，搞出高端光刻機是早晚的事，如果高端晶元也搞出來，自己的光刻機給自己的晶元廠商用，不用再進囗，國外晶元廠商賣不動晶元，自然不再買光刻機，逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損，甚至垮台，中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。

10. 中國研製出世界上首台用紫外光源實現了22納米解析度的光刻機，這在世界上屬於什麼水平

光刻機是集成電路產業的一顆最璀璨的明珠，閃爍著高難問的光輝，如同航空產業的發動機一樣，由於技術門檻非常之高，一般人拱不動的，日本由於收購德國亞深，掌握了深紫外光源技術和物鏡技術，其尼康和佳能也能做22納的水平，

此二者都是日本根本不可能完成的。以現在的技術，產業以後，以其壽命長，產率高，可以白菜價佔領14納的市場。致於極紫外的，現在都在努力，據說0.1納的鏡片，我們已攻克，上面鍍的一層原子膜，中國說是第二，無人敢講第一。據悉日本不敵已敗走，阿斯麥為此正在吭哧憋肚。年初中芯花錢買來的7納EUV，每台1.2億美刀，我們的量產後，不過千萬級。