反滲透膜的氧化
⑴ RO膜被氧化後還能恢復么
您好，這種情況下如果不是結垢的話，那就是有機物造成的污堵，因為您只版是存放於權自來水中，並沒有放於保護液亞硫酸氫鈉中，這樣導致細菌，有機物滋生然後附著於膜表面污堵，這種情況下，如果是工業膜，建議用0.1%的氫氧化鈉溶液沖洗，也就是1立方米的純水+1Kg純氫氧化鈉的比例。低壓循環20分鍾左右（3公斤壓力）。然後純水沖洗。如果您污染的是家用膜，那麼建議，扔掉。
⑵ 如何判斷反滲透膜氧化
一般使用久的話，就會被易熔鹽和金屬氧化物氧化，壓力增加10%左右和純水流量減少15%左右就要清洗了
⑶ 反滲透RO膜及清洗方法
RO膜微生物污染用百分之3濃度的氫氧化鈉溶液清洗
RO膜結垢用百分之3的鹽酸或檸檬酸清洗
⑷ 反滲透膜被氧化的原理
一般使用久的話，就會被易熔鹽和金屬氧化物氧化，所以反滲透膜前面必須加置預處理（如石英石過濾器、保安過濾器等），才能延長反滲透膜的使用壽命！！
⑸ 反滲透膜氧化有挽回的可能嗎或者說有什麼辦法在氧化的基礎上提高點脫鹽率可以把膜的順序倒一下嗎
作用不大，後端反滲透膜進水是前一支的濃水，脫鹽率不變的情況下含鹽量只會越大。我們這也出現過反滲透氧化的情況，基本辦法只有一個，就是更換。膜的氧化是不可逆的。
⑹ 反滲透膜外部變色是什麼原因如何處理
看你說的樣子差不多，反滲透前面是不是加殺菌劑了，如果加殺菌劑就要內還原葯劑或者活性炭過濾，用容還原劑就要檢測一下還原電位是多少，數值越小越好，只要低於＋200就應該沒為題 ，如果是活性炭過濾檢測一下余氯了，應該是0.這些是預防的措施，如果是膜已經氧化了就沒得救了，只能換膜。
⑺ 我是做水處理的，我想問一下，一般的自來水中哪些物資會導致反滲透膜元件氧化
自來水的話關注余氯吧：0.1ppm以下。具有強氧化性的都會導致膜氧化。高錳酸甲，硝酸………
⑻ 如何防止RO膜的氧化
膜元件進水中的余氯含量不得超過0.05mg/L，否則將會導致膜元件不可恢復的氧化損壞。
⑼ 怎樣防止RO膜的氧化
RO被氧化。。。
如果你確定原水中不含氧化性的物質，那UF反洗帶入專的NaCl0就是膜氧化的原因了。屬
我覺得有幾點要注意：
1、你UF的反洗有正沖這個步序么，反洗完正沖可以把殘留的NaCl0沖出膜系統。
2、一般而言ORP表應裝在還原劑加葯點之後，你說裝在UF產水母管，個人認為不妥。
3、ORP只能間接表示余氯的含量，PH等的變化對其讀數也有影響，需要認真測量水中余氯含量。
4、ORP值：在現場用校核過的ORP表測確保沒有含余氯的水，其讀數作為設定值，因為讀數的延遲性所以適當的調低讀數。
希望對樓主有用。
⑽ 鐵錳氧化之後進入反滲透膜怎麼清洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。