半导体纯水

❶ EDI纯水到底是什么东西啊

EDI纯水应该是使用EDI模块制成的纯水。

EDI制备纯水的原理：

EDI连续电除盐水处理设备（电解式连续去离子）为模块式设备，可根据需要任意组合，该系统不需要停机再生，无需酸碱，因此废水排放问题也得到解决，更符合环保要求。可将水的电阻值由0.05-

0.1MQ/cM提升至15-18MQ/cM。EDI装置现已应用在半导体、电厂、电子、制药、实验室等领域制备高纯水；阴阳离子及混床离子交换水处理设备是利用阴阳离子树脂与水中溶解性盐类离子进行离子交换的水处理技术；

根据最终去除水中阴阳离子及混床离子交换除盐水系统的交换特性，可将系统分为：单床式离子交换除盐系统、双床式离子交换除盐系统和混床式离子交换除盐系统。

❷ 半导体纯水为什么对硅含量有要求

1)
本征半导体是一种完全纯净的、结构完整的半导体晶体。绝对零度时价内带被价电子填满，导带容是空的。
2)
随着温度的升高，本征载流子浓度迅速地增加，在本征时器件不能稳定工作。而对于掺杂半导体，室温附近载流子主要来源于杂质电离，在杂质全部电离的情况下，载流子浓度一定，器件就能稳定工作。所以，制造半导体器件一般都会用含有何当杂志的半导体材料，而且每一种半导体材料制成的器件都有一定的极限工作温度，超过这一温度后，器件就会失效。
3)
杂质在元素半导体
Si和Ge中的作用：是半导体Si\Ge的导电性能发生显著的改变。
复制别人的
呵呵
还是希望能帮助你

❸ 纯水和超纯净水的标准各是什么

纯水和来超纯水一般都没有统自一的标准。是根据用户的需求来规定。
一般意义上讲纯水至少应该是去离子水，即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。
目前水质要求最高的超纯水是半导体行业，根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样，其超纯水的水质指标如下：
电阻率大于18.2兆欧（25摄氏度）；TOC（总有机碳）小于1到10ppb，DO（溶解氧）小于1到10ppb；Particle（颗粒）：0.05微米小于200个/升；离子含量大部分是小于20到50ppt；细菌检测：无。

❹ 半导体超纯水设备生锈应该如何解决

1、维护膜有些决裂或涂料有些掉落，这些决裂或掉落涂料的地方会遭到腐蚀。专
2、保证防属腐涂料具有良好的附着力、柔韧性以及耐长期冲刷的性能。
3、保证防腐涂料在运输、安装及使用中有良好耐紫外线照射及防水防冻的性能。
4、半导体超纯水设备管道内外喷漆防腐，金属外表所触摸的水溶液中，氧的浓度不一样，构成氧的浓差电池，富氧有些为阴极，而缺氧有些则成阳极遭到腐蚀。

❺ 半导体行业用纯水机吗

不需要，半导体行业用的不是纯水机，而是一种专门给半导体行业配备的水机，而不是纯水机

❻ 光伏行业晶体管，半导体集成电路为什么一定要用纯水

半导体工业就是通过在本征半导体（比如纯硅）里掺杂质来调节半版导体材料导电性和其它物理权化学性能的，极微量杂质就会剧烈改变半导体材料的性能，所以整个生产过程必须用去离子水，以减少非必要杂质的引入。去离子水是高纯水，自来水乃至蒸馏水都达不到去离子水的纯度。

❼ 半导体工业中为什么要用去离子水

因为许多杂质（重金属、钠、钾等）对于半导体特性的影响很大，在半导体表面清洗时，需要去掉这些有害杂质，以免在高温处理时让这些杂质进入到半导体中，故在清洗时必须采用纯净的去离子水。

❽ 如何生产纯水

如果在实验室的话，你可以通过蒸馏的办法,如果生产的话可以用电渗析方法或反渗透法，或者二者组合使用再加上紫外杀菌仪器生产。

❾ 半导体超纯水设备的价格为何会有很大的差别

当前抄国内半导体行业应用的超纯水袭设备一般有前端预处理及RO、EDI提纯等工序。

1.根据超纯水设备的材质不同，选用的RO膜的品牌不同以及EDI模块的吨位及品牌区别，价格上也有很大的差距。

2.其中价格中膜元件及设备材质因素会极大地影响整体设备的价格。

3.具体的加工工艺以及厂家报价也会对价格有所影响。

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