晶圆去离子过程加工
发布时间: 2020-12-16 00:14:20
㈠ 半导体中晶圆切割去离子水的作用是什么
1 因为复切割过程中会产生热制量，使用去离子水进行冷却；
2 切割中会产生一些粉尘和碎屑，切得过程中要一直使用水来冲洗刀片。
使用去离子水是防止水中的可移动离子，比如Na\Cl之类对Wafer造成污染，影响后续的工艺。
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㈠ 半导体中晶圆切割去离子水的作用是什么
1 因为复切割过程中会产生热制量，使用去离子水进行冷却；
2 切割中会产生一些粉尘和碎屑，切得过程中要一直使用水来冲洗刀片。
使用去离子水是防止水中的可移动离子，比如Na\Cl之类对Wafer造成污染，影响后续的工艺。