光刻机配套用的水设备

1. 淘宝买来个水货Pioneer BDR-S06XLB蓝光刻录机，可是显示不出盘，卖家说要换window7系统才行，是这样的吗

强烈建议升级之后再试试，因为，我买过索尼的蓝光DVD刻录光驱。也是要及时软件更新的，否则，蓝光DVD都无法播放的。它提示升级就要听它的。希望能够帮到你。

2. 上海微电子装备的光刻机能达到什么水平

600系列光刻机——IC前道制造基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

500系列光刻机——IC后道、MEMS制造
基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用ghi线的高功率汞灯作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及3D-TSV结构等具有良好的自动适应性，并通过采用具有专利的图像智能识别技术，无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。

300系列光刻机——LED/MEMS/Power Devices制造
300系列光刻机面向亚微米2-6英寸晶圆的光刻市场需求，支持亚微米节点条件下的各种半导体光刻制程，特别包括LED图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺。

200系列光刻机—AM-OLED显示屏制造
200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为 G2.5(370mm × 470mm)到G5.5(1300mm × 1500mm)的AM-OLED显示屏量产线。

3. 索尼光刻机什么水平

22纳米左右

4. 中国的光刻机与刻蚀机已经达到世界先进水平，为什么有些人还说中国芯片业依旧前路艰辛

据媒体报道，2018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了。目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证；但是光刻机就差多了，之前新闻报道中提到的“中科院SP超分辨光刻机”其实最多只能算是一个“原型机”，和ASML的光刻机不能相提并论，也不能用来制造芯片，还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么？ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为芯片也只有光刻机和刻蚀机。芯片制造的技术、经验、工艺以及人才是一个系统性的工程，台积电也不是一天建成的，有了光刻机也不代表我们就能造出最顶尖的芯片。

5. 国产光刻机是什么东西今年下线预示着什么

社会在不断的进步，人们对于一些事情的认识也不清晰，对于这些事情，我们需要不断的钻研，这是需要一步步的研究才能完成的，我们对于一些领域是完全陌生的，就算是经过很多年，这件事都是无法改变的，但是我相信，只要我们不断努力，在最后所有问题都是会被解决，这一点是不需要怀疑的，我国有很多的人，他们有着超人的毅力，对于困难，他们不会退缩，他们只是选择迎难而上，这是值得我们每一个人敬佩的，我们需要学习这种精神。

6. 中国目前光刻机处于怎样的水平

按照高端、中端、低端三个档次来划分的话，中国目前是属于第三档，正在努力的向第二档迈进。

由于早些年国内对光刻机这块并不算重视，导致中国光刻机的起步晚、资金投入少、人才也相对不足，这些都是需要解决的问题。除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。

7. 中国的光刻机达到世界先进水平，为什么还有人说中国芯片业依旧前路艰辛

光刻机是什么？
我们知道一个人的身体素质好坏，跟它的心脏有关，光刻机就是所有电子产品的心脏。专业一点说光刻机是一台机器，它可以完成在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上，最后将器件或电路结构临时"复制"到硅片上。

现在他们正在再接再厉，乘胜追击，进行其他各系列产品的研发制作工作，在该领域捷报频传。

2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目"超分辨光刻装备研制"通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。 10纳米跟世界先进水平7纳米的差距，乐观估计是十年的差距。

目前我国芯片制造技术落后，光刻机水平也不是世界先进水平，但我国科学家是最棒 的，一定会迎头赶上的。

8. 中国光刻机明年可以达到世界先进的水平，开始迈入芯片强国

芯片领域有一种必不可少的设备，那就是光刻机，它不是印钞机，但是它却比印钞机都要贵。就目前纵观全球也仅仅只有一家名为ASML（阿斯麦）的荷兰公司集全球高端制造业之大成，一年时间可以造出20台高端光刻机，而这20台的高端光刻机让台积电和三星每年都为此抢破了头，这也让我们国内的中芯国际苦苦等了三年，也没能将中国的首台EUV光刻机带进国门，最近也是因为受到禁令影响，台积电无法在为华为代工芯片，芯片领域才又重新回到了我们的视野中。

但其实这对于ASML来说反而是一个机会，依附了美国之后的ASML反而是风生水起，因为ASML加入了EUV LLC，享受了该联盟的所有研发成果，所以ASML才能够快速的崛起，成为现在掌握代工厂生杀大权的一家光刻机公司。虽然说ASML是一家荷兰公司，但本质上这还是一次美国式的成功，而且现在到底还属不属于荷兰都是另外一回事儿了。

这场光刻机的战争至此算是完全落败了，这从那台整整三年还未能交付的EUV光刻机上就能够看出了。虽然说我们在当时几乎没有参与，但在如今社会的推动下，我们依然是输家，华为芯片的断供就代表了太多的东西。而要说我们国内光刻机明年就可以达到世界先进水平，开始迈入芯片强国，那是不可能的事情。你觉得呢？

9. 中国目前光刻机处于怎样的水平为什么短时间内造不出来

中国光刻机生产落后，关键还是能够买进更先进的机器。如果西方国家实施制裁，禁止中国从西方进口，用不了几年，光刻机的生产就是赶不上他们，也不会与他们有大差距。成立中国企业基金会，中国银行联盟基金会，给中国的各类装备研发生产企业以年百亿级别的资金支持，派出国家院士团队全力支持研发，不愁一年两年搞不出来。

光刻机是一台机器，你可以不断分解这台机器，一直到各独立原件，尤其那些关键是几个部件，你会发现，做这个部件，要列出一大堆工艺设备技术，如同一棵树散出无数枝条和树叶，叶脉你就不要纠结了，就完善这些树枝和树叶就能把一万人累死！

有人说的好：“钱不是万能的，但没有钱是万万不能的”，但是还有人说的一句话更有道理：“有钱能解决的问题都不是问题”，而芯片等领域恰恰是光有钱也不一定能解决问题的，否则为什么我们要花那么多钱钱去买，为什么华为宁可被罚了那么多钱也要美国的芯片，不会把这些钱投入自己造啊，关键是有钱也造不出啊！有些领域一不能逆向模仿，二不能弯道超车，三不是喊“口号”喊出来的，抓紧追赶才是正道。

中国只要不计成本，搞出高端光刻机是早晚的事，如果高端芯片也搞出来，自己的光刻机给自己的芯片厂商用，不用再进囗，国外芯片厂商卖不动芯片，自然不再买光刻机，逼迫荷兰光刻机厂商大亏损，甚至垮台，中国在世界就是真正的巨人了。赚钱就是自然的了。这事全世界只有中国能做。

10. 中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，这在世界上属于什么水平

光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平，

此二者都是日本根本不可能完成的。以现在的技术，产业以后，以其寿命长，产率高，可以白菜价占领14纳的市场。致于极紫外的，现在都在努力，据说0.1纳的镜片，我们已攻克，上面镀的一层原子膜，中国说是第二，无人敢讲第一。据悉日本不敌已败走，阿斯麦为此正在吭哧憋肚。年初中芯花钱买来的7纳EUV，每台1.2亿美刀，我们的量产后，不过千万级。