张家港半导体去离子水设备

⑴ 半导体工业中为什么要用去离子水

因为许多杂质（重金属、钠、钾等）对于半导体特性的影响很大，在半导体表面清洗时，需要去掉这些有害杂质，以免在高温处理时让这些杂质进入到半导体中，故在清洗时必须采用纯净的去离子水。

⑵ 半导体中晶圆切割去离子水的作用是什么

1 因为复切割过程中会产生热制量，使用去离子水进行冷却；
2 切割中会产生一些粉尘和碎屑，切得过程中要一直使用水来冲洗刀片。
使用去离子水是防止水中的可移动离子，比如Na\Cl之类对Wafer造成污染，影响后续的工艺。