plasma亲水处理

❶ 等离子表面处理和普通火烧有什么区别

等离抄子的原理主要有2个变化：

• 物理变袭化：清除产品表面粉尘和灰尘，起到洁净的作用，但又不像洗洁精一样清除油污和固化污渍。

• 化学变化：通过离子束刺激产品表面分子结构，打断分子链条，使其变的游离状态，从而使得在印刷和喷码等方面，捏合力更加强。

  温州市亿鸿科技专业等离子生产制造

火烧是高温破坏产品表面，产品表面高温熔化而变的粗糙，从而提高粘接能力。等离子是微观破坏产品表面分子结构，肉眼完全看不出来的。

❷ plasma处理机 plasma处理机

plasma处理机广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面版改性等场合。通过其权处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。 plasma处理机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择多种射频电源发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。主要应用于LCD、LED、连接器、键合前等大规模生产领域。 所有元器件及核心部件采用进口，保证了整机的稳定性和使用寿命 深圳奥坤鑫科技有限公司专业从事plasma处理机的生产与销售。在福永，可以去了解一下

❸ 谁能说说plasma离子清洗机的工作原理

等离子清洗机 工作原理分析：
电浆与材料表面可产生的反应主要有两种，一种是靠自由基来做化学反应，另一种则是靠等离子作物理反应，以下将作更详细的说明。
（1）化学反应（Chemical reaction）
在化学反应里常用的气体有氢气（H2）、氧气（O2）、甲烷（CF4）等，这些气体在电浆内反应成高活性的自由基，其方程式为：
这些自由基会进一步与材料表面作反应。
其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应，在压力较高时，对自由基的产生较有利，所以若要以化学反应为主时，就必须控制较高的压力来近进行反应。
（2）物理反应（Physical reaction）
主要是利用等离子体里的离子作纯物理的撞击，把材料表面的原子或附着材料表面的原子打掉，由于离子在压力较低时的平均自由基较轻长，有得能量的累积，因而在物理撞击时，离子的能量越高，越是有的作撞击，所以若要以物理反应为主时，就必须控制较的压力下来进行反应，这样清洗效果较好，为了进一步说明各种设备清洗的效果。

等离子体清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。

2.等离子清洗机的清洗分类：

2.1 反应类型分类
等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。
以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，腐蚀作用各向异性；缺点就是对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较，化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同，物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”，从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性，又有较好的方向性。
典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。

2.2 激发频率分类
等离子态的密度和激发频率有如下关系：
nc=1.2425×108v2
其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。
常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。
不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响最大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗

❹ plasma等离子处理可以取代传统的液体处理麽

由阳离子和阴离子构成的化合物。活泼金属（如钠、钾、钙、镁等）与活泼非金属（如氟、氯、氧、硫等）相互化合时，活泼金属失去电子形成带正电荷的阳离子（如钠离子、钾离子、钙离子、镁离子等），活泼非金属得到电子形成带负电荷的阴离子（如氟离子、氯离子、氧离子、硫离子等），阳离子和阴离子靠静电作用构成了离子化合物。例如，氯化钠即是由带正电的钠离子（Na⁺）和带负电的氯离子（Cl^-）构成的离子化合物。在离子化合物里阳离子所带的正电荷总数等于阴离子所带的负电荷总数，整个化合物呈电中性。

离子化合物（ionic compound）是存在于：

1、活泼金属（指第一和第二主族的金属元素）与活泼的非金属元素（指第六和第七主族的元素）之间形成的化合物

2、金属元素与酸根离子之间形成的化合物。（酸根离子如硫酸根离子SO42-、硝酸根离子NO3-、碳酸根离子CO32-等等）；

3、铵根离子（NH4+）和酸根离子之间，或铵根离子与非金属元素之间，例如氯化铵、硝酸铵。

4、氢化钠、氢化钾等活泼金属氢化物。

离子化合物都是电解质。在熔融状态下：都可以导电（此类物质加热时易分解或易氧化）。在水中：有的可以导电，有的不可以导电（此类物质易与水反应或不溶于水）。 在原电池中的作用：形成闭合电路。

有机化合物大多数都是共价化合物，只有金属元素或铵根离子和羧酸根离子构成的化合物是离子化合物，如乙酸钠、乙酸铵等。

希望我能帮助你解疑释惑。

❺ plasma清洗的工作原理，比如纯氧气体清洗水印的！

等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子表面处理仪（plasma surface treatment）,是一种全新的高科技技术，利用等专离子体来达到常属规清洗方法无法达到的效果。 等离子清洗机(plasma cleaner)
1.等离子体基础知识： 等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 2.等离子清洗原理：[1] 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性 .....

❻ oxygen plasma为什么可以提高硅si的亲水性（hydrophilic）

在等离子状态下提高了表面的活性,但也是暂时的,放空气中不久就又恢复了

❼ 等离子表面处理是什么原理

中性粒子的温度接近室温，这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。通过低温等离子体表面处理，材料表面发生多种的物理、化学变化，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。

❽ 为什么打了O2 plasma后Si变疏水性

可能是功率过大或是时间过长，再有可能你之前曾经做过HF等去除表面氧化层的操作，正常情况下应该是高度亲水，还有我不知道在你看来接触角多大算是疏水。

❾ 半导体封装中常运用plasma，那么是不是所有的plasma的功能一样的呢plasma etch只是去除异物吗

我不是做封抄装的，不过我经常用RIE（Reactive Ion Etch）

原理就是用各种气体的plasma来对半导体芯片进行蚀刻

不同气体的plasma的作用是不一样的~你说的除去异物的那种，我估计应该是氧气（O2）或者氩气（Ar）吧？

激活表面这个说法我还真没有听说过。。

个人觉得不会。。1是觉得没有必要，2是因为没有mask的话，直接上plasma进行对芯片本体的结构处理是很危险的。。有可能会损坏原有的构造，导致芯片损毁

❿ 关于Plasma(等离子体)的讲解详细资料

等离子体（Plasma）是一种由自由电子和带电离子为主要成分的物质形态，广泛存在于宇宙中，常被视为是物质的第四态，被称为等离子态，或者“超气态”。等离子体具有很高的电导率，与电磁场存在极强的耦合作用。等离子体是由克鲁克斯在1879年发现的，1928年美国科学家欧文·朗缪尔和汤克斯（Tonks）首次将“等离子体（plasma）”一词引入物理学，用来描述气体放电管里的物质形态。

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等离子体的原理

等离子体通常被视为物质除固态、液态、气态之外存在的第四种形态。如果对气体持续加热，使分子分解为原子并发生电离，就形成了由离子、电子和中性粒子组成的气体，这种状态称为等离子体。等离子体与气体的性质差异很大，等离子体中起主导作用的是长程的库仑力，而且电子的质量很小，可以自由运动，因此等离子体中存在显著的集体过程，如振荡与波动行为。等离子体中存在与电磁辐射无关的声波，称为阿尔文波。
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常见的等离子体

等离子体是存在最广泛的一种物态，目前观测到的宇宙物质中，99%都是等离子体，虽然分布的范围很稀薄。

人造等离子体：
* 荧光灯，霓虹灯灯管中的电离气体
* 核聚变实验中的高温电离气体
* 电焊时产生的高温电弧，电弧灯中的电弧
* 火箭喷出的气体
* 等离子显示器和电视
* 太空飞船 重返地球时在飞船的热屏蔽层 前端产生的等离子体
* 在生产集成电路用来蚀刻电介质层的等离子体
* 等离子球

地球上的等离子体：
* St. Elmo's fire
* Sprites, elves, jets
* 火焰（上部的高温部分）
* 闪电
* 低温等离子体NTP
* 球状闪电
* 大气层中的电离层
* 极光

太空和天体物理中的等离子体：
* 太阳和其他恒星（其中等离子体由于热核聚变供给能量产生）
* 太阳风
* 行星际介质（存在与行星之间）
* 星际介质（存在于恒星之间）
* 星系间介质（存在于星系之间）
* Io-木星的通量管
* 吸积盘
* 星云
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等离子体的性质

等离子态常被称为“超气态”，它和气体有很多相似之处，比如：没有确定形状和体积，具有流动性，但等离子也有很多独特的性质。

电离：
等离子体和普通气体的最大区别是它是一种电离气体。由于存在带负电的自由电子和带正电的离子，有很高的电导率，和电磁场的耦合作用也极强：带电粒子可以同电场耦合，带电粒子流可以和磁场耦合。描述等离子体要用到电动力学，并因此发展起来一门叫做磁流体动力学的理论。

组成粒子：
和一般气体不同的是，等离子体包含两到三种不同组成粒子：自由电子，带正电的离子和未电离的原子。这使得我们针对不同的组分定义不同的温度：电子温度和离子温度。轻度电离的等离子体，离子温度一般远低于电子温度，称之为“低温等离子体”。高度电离的等离子体，离子温度和电子温度都很高，称为“高温等离子体”。

相比于一般气体，等离子体组成粒子间的相互作用也大很多。

速率分布：
一般气体的速率分布满足麦克斯韦分布，但等离子体由于与电场的耦合，可能偏离麦克斯韦分布。
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等离子体在现实生活中的应用
* 等离子电视
* 等离子泡泡
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等离子体物理学

等离子体物理学是研究等离子体性质的物理学分支。等离子体是物质的第四态，是由电子、离子等带电粒子及中性粒子组成的混合气体，宏观上表现出准中性，即正负离子的数目基本相等，整体上呈现电中性，但在小尺度上具有明显的电磁性质。等离子体还具有明显的集体效应，带点粒子之间的相互作用是长程库仑作用，单个带点粒子的运动状态受到其它许多带电粒子的影响，又可以产生电磁场，影响其它粒子的运动。等离子体物理学目的是研究发生在等离子体中的一些基本过程，包括等离子体的运动、等离子体中的波动现象、等离子体的平衡和稳定性、碰撞与输运过程等等。等离子体物理学具有广阔的应用前景，包括受控核聚变、空间等离子体、等离子体天体物理、低温等离子体等等。

等离子体物理学常用的有单粒子轨道理论、磁流体力学、动理学理论三种研究方法。单粒子轨道理论不考虑带电粒子对电磁场的作用以及粒子之间的相互作用。磁流体力学将等离子体作为导电流体处理，使用流体力学和麦克斯韦方程组描述。这种方法只关注流体元的平均效果，因此是一种近似方法。动理学理论使用统计物理学的方法，考虑粒子的速度分布函数。
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等离子体天体物理学

等离子体天体物理学是以等离子体物理学为基础的天体物理学分支。宇宙中绝大部分物质是等离子体，因此等离子体天体物理学的研究范围很广，包括日冕、超新星遗迹、活动星系核、致密星、星际介质等。

在1929年美国物理学家朗缪尔提出等离子体这个概念之前，天体物理学家已经研究过等离子体。1921年米尔恩（Milne）根据萨哈公式建立了恒星大气理论，1939年丹麦天文学家斯特龙根提出星际介质中存在中性氢区和电离氢区，对星际介质和恒星演化理论起了重要的影响。等离子体天体物理学这个名词是在20世纪60年代末出现的。等离子体天体物理学采用实验室等离子体物理学取得的成果，本身也可以得到对等离子体物理学有意义的新结果。

实验室等离子体物理学通常只涉及小尺度的问题，而等离子体天体物理学涉及的是大尺度的宇宙等离子体系统，往往处于光学厚的状态，与辐射和宇宙线具有很强的相互作用。宇宙等离子体大部分情况下可以认为是均匀、无边界的，在应用理论模型时带来了很大的便利。此外，宇宙等离子体的特征尺度很大，因此磁雷诺数往往很大，具有明显的磁冻结效应，即磁力线如同冻结在流体元上，随流体的运动而一起运动。
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资料来源：维基网络