硅废水治理

A. 硅片清洗废水处理方法都有哪些优势

采用硅片清洗废水处理方法中的废水循环利用法与系统，以减小现有技术中单多内晶硅片制造需要容消耗大量自来水的问题。
1、水质分类，合理优化资源
根据多晶硅片制造过程中各用水环节对水质的要求，将用水环节分成高等水质用水环节、中等水质用水环节、和低等水质用水环节。将高等水质用水环节排出的废水进行净化处理，然后作为中等水质用水环节和低等水质用水环节的用水。
2、增加沉淀池和过滤器，对水要求进行划分
根据本方法的另一个方面，还提供了一种废水循环利用系统，应用于单多晶硅片制造，该系统包括：第一级沉淀池，第二级沉淀池，过滤器（具体可以参考陶氏滤膜）。
3、通过传感器增加灵敏度
本方法提供的系统，还包括控制器，滤后储水槽内由高至低设置有第一高液位传感器、第一中液位传感器和第一低液位传感器三个液位传感器。

B. 含乳化硅油的废水怎么处理谢谢，急！

一般这类乳化液算危废。处理的话，工艺破乳+混凝+气浮+过滤除油

C. 含硅废水的处理流程

流程
(1)将粉末状的生石灰放入所述储料仓中，同时将待处理的含硅废水通过所述进水管加入所述机体内;
(2)通过所述控制键盘发送工作指令，并通过所述控制主机控制所述电磁阀一打开将生石灰通过所述出料管排入所述机体内的含硅废水中，生石灰应过量加入;
(3)之后通过所述控制键盘控制所述电磁阀一关闭并控制所述伺服电机工作，所述伺服电机通过所述转轴带动所述搅拌叶片转动来对所述机体内的含硅废水进行搅拌，使其充分反应;
(4)通过所述控制键盘设置预定加热温度值并控制所述电加热板工作来对含硅废水进行加热，同时所述温度传感器工作获取所述机体内含硅废水的实时温度信息并回传给所述控制主机;
(5)所述控制主机将实时温度信息与预定加热温度值进行对比，当实时温度信息与预定加热温度值相同时，所述控制主机控制所述电加热板稳定工作;
(6)所述伺服电机搅拌40min后停止工作，同时所述电加热板停止工作;
(7)静置15min后，通过所述控制键盘控制所述离子传感器工作实时获取所述机体内含硅废水中的硅离子的浓度信息并回传至所述控制主机，所述控制主机将硅离子的浓度信息传递至所述显示屏上实时显示供使用者观察判断;
(8)若硅离子的浓度信息不符合排放标准，需重复步骤(1)到(7)，若硅离子的浓度信息符合排放标准，则含硅废水处理完成，通过所述控制键盘控制所述吸泵工作将处理完成的水通过所述排水管路输送至所述出水管排出到外界;
(9)排水完成后，通过所述控制键盘控制所述电磁阀二打开，将所述机体内沉降的污物通过所述排污管排出到外界。

D. 硅片清洗废水处理方法有哪些

硅片清洗废水可以使用极限分离系统来处理废水，结合膜组件进行处理，建议使用陶氏反渗透膜+超滤膜的组合。

E. 含乳化硅油的废水怎么处理

加碱，硅油就絮凝了，过滤掉硅油，然后，把水用酸中和，就可以排放了。

F. 硅矿开采中的污水如何处理（请提供详细方案）

混凝沉淀

G. 含 硅氧烷 废水 污水 如何处理

(1)将粉末状的生石灰放入所述储料仓中，同时将待处理的含硅废水通过所述进水管加入所述机体内;
(2)通过所述控制键盘发送工作指令，并通过所述控制主机控制所述电磁阀一打开将生石灰通过所述出料管排入所述机体内的含硅废水中，生石灰应过量加入;
(3)之后通过所述控制键盘控制所述电磁阀一关闭并控制所述伺服电机工作，所述伺服电机通过所述转轴带动所述搅拌叶片转动来对所述机体内的含硅废水进行搅拌，使其充分反应;
(4)通过所述控制键盘设置预定加热温度值并控制所述电加热板工作来对含硅废水进行加热，同时所述温度传感器工作获取所述机体内含硅废水的实时温度信息并回传给所述控制主机;
(5)所述控制主机将实时温度信息与预定加热温度值进行对比，当实时温度信息与预定加热温度值相同时，所述控制主机控制所述电加热板稳定工作;
(6)所述伺服电机搅拌40min后停止工作，同时所述电加热板停止工作;
(7)静置15min后，通过所述控制键盘控制所述离子传感器工作实时获取所述机体内含硅废水中的硅离子的浓度信息并回传至所述控制主机，所述控制主机将硅离子的浓度信息传递至所述显示屏上实时显示供使用者观察判断;
(8)若硅离子的浓度信息不符合排放标准，需重复步骤(1)到(7)，若硅离子的浓度信息符合排放标准，则含硅废水处理完成，通过所述控制键盘控制所述吸泵工作将处理完成的水通过所述排水管路输送至所述出水管排出到外界;
(9)排水完成后，通过所述控制键盘控制所述电磁阀二打开，将所述机体内沉降的污物通过所述排污管排出到外界。

H. 硅片切割废水怎么处理

根据废水中的污染物种类选择不同的处理方法。有没有大量悬浮物？有没有油类物质？氨氮多少？COD多少？等等。